更新日: 2026年8月18日
近年、印刷技術の微細化が急速に進展しており、製造業における応用が期待されている。とりわけ、省人化や生産性の向上、省資源化といった社会的要請を背景に、新たな製造手法としての印刷技術の活用が注目されている。
本研究では、構造物構築を可能とする印刷技術の応用条件を明らかにすることを目的とし、スクリーン印刷法と手動オフセット印刷によって形成されたパターンと、半導体プロセスであるフォトリソグラフィ技術を用いた高精度に作製されたメタサーフェス構造との機能差に着目して、両製法によるパターン形成の違いがメタサーフェスの機能性に及ぼす影響を検討したので報告する。
【県単独試験研究 令和６年度～令和７年度】／ 技術シーズ（令和７年度終了課題）
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