説明
用途
- 金属，絶縁体の薄膜の成膜
スペック・付属品等
- ターゲットサイズ:φ3 インチ×3 個
- ターゲット種:SiO2，Mo
- (その他のターゲットは別途ご用意ください)
- 基板サイズ:最大φ180 mm
- 方式:サイドスパッタ
- スパッタ電源:500 W 高周波電源
- 排気系:ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプ
- 基板加熱:不可
更新日: 2021年11月11日
スパッタ装置
料金
使用料金：¥1,200円（1時間あたり）
| 研究員による支援 3,900円/時 操作法説明 3,900円/時 時間外の機器利用料は2割増となります。 |
施設機器の利用制限
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